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15t/h功率半导体超纯水设备

概要信息:
功率半导体芯片生产用水,满足硅片、刻蚀、去胶清洗用水,减薄清洗用水光刻清洗用水;
基本信息
没有此类产品
描述

一、纯水出水技术参数:

   电阻率:       ≥18.1MΩcm(@25℃)

   总溶解有机碳 TOC:<50ppb

   颗粒度:        < 5个/ml  (φ>0.2u)

   SiO2含量:                < 5ppb

   温度:        22~27℃

   细菌含量:     <50个/100ml

   压力:0.3Mpa

 

二、处理工艺

 

三、应用范围

  功率半导体芯片生产用水,满足硅片、刻蚀、去胶清洗用水,减薄清洗用水光刻清洗用水;

 

 

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