半导体生产用超纯水设备优点特点介绍

半导体生产用超纯水设备优点：
半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水，基板晶圆片检测清洗用水，中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗，后段检测封装清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生长用水，中段主要在曝光、显影、去光阻清洗用水，后段检测封装用水。同时，半导体行业对TOC的要求较高。

半导体生产用超纯水设备特点介绍：
由于半导体生产用超纯水设备的工艺是根据不同的入水水质和出水要求而设计的，针对不同的原水水质特点而设计超纯水设备方案才是经济有效的方案，同时也是出水水质长期稳定达到要求的保证。超纯水设备由于用途不一样，会有不同的制造流程，或有的把几种工艺结合起来让水质达到预期的效果，按类别可大至分为以下几种，比较常用的预处理系统，反渗透系统， EDI电除盐超纯水系统，精处理系统等。

半导体生产用超纯水设备原理及特点：
(1)出水水质具有稳定性
(2)能连续生产出符合用户要求的超纯水
(3)模块化生产，并可实现全自动控制
(4)不需酸碱再生，无污水排放
(5)不会因再生而停机
(6)无需再生设备和化学药品储运
(7)设备结构紧凑，占地面积小
(8)运行成本和维修成本低
(9)运行操作简单，劳动强度低