半导体纯化水设备平常保养非常重要

半导体纯化水设备应用于制药行业以满足生产线的用水需要，并且其要求整个系统严格选材和规范制造，采用不锈钢材质，由各个功能单元进行组合优化，对原水进行净化处理，并且在这个制水过程中避免二次污染，确保产水各项指标符合企业的用水质量。

半导体纯化水设备保养措施：
1、半导体纯化水设备的原水阀门应经常开启，原水箱液位有浮球控制。原水箱设有排污阀，可定期清理水箱，以防止微生物滋生。
2、当半导体纯化水设备停机时，可使用原水对石英砂过滤器、活性炭过滤器进行反冲洗，并且砂罐及碳罐中的滤料约一年更换一次，具体视水质而定。
3、半导体纯化水设备应根据原水水质及设备运行情况，设定全自动软水器的运行周期和时间。
4、对于半导体纯化水设备，应定期检查、及时更换精密过滤器的滤芯，以防止类型因安装问题或者出现泄露而引起反渗透膜的污染。通常精密过滤器内PP滤芯每间隔一个月清洗一次，每半年更换一次。另外，设备运行时，还应该经常检查精密过滤器内是否存在气体，应避免将空气带入反渗透系统。
5、需定期对设备的产水水质进行化验分析，根据分析结果及时调整絮凝剂、杀菌剂、阻垢剂的加药量。
6、由于反渗透系统是半导体纯化水设备的核心装置，应注意反渗透膜使用情况，注重维护和保养。当反渗透装置的产水量逐渐减低10%时，或者水质逐渐下降、出现超标时，应及时对反渗透膜进行化学清洗，以保证反渗透膜的工作性能。