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水处理百科

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德兴市意发功率半导体有限公司低能耗半导体功率器件生产线配套高纯水设备

2019/11/01 09:15
【摘要】:
项目主要生产6英寸的沟槽和平面型IGBT、智能功率MOSFET及碳化硅器件产品。主要工艺流程:硅片(固态)-硅片清洗-扩散/氧化-光刻-刻蚀-去胶-离子注入--化学气相沉积-溅射铝-减薄-QC质量检验-入库。本项目采用二级反渗透+EDI+抛光混床工艺制取高纯水,特别考虑到了对水中TOC、颗粒物和细菌方面的控制。

德兴市意发功率半导体有限公司低能耗半导体功率器件生产线配套高纯水设备。半导体高纯水设备

该项目位于德兴市高新技术产业园,占地面积12639平方米,建筑面积18839平方米,总投资50000万元,其中环保投资288万元,占总投资的5.78%。项目主要生产6英寸的沟槽和平面型IGBT、智能功率MOSFET及碳化硅器件产品。主要工艺流程:硅片(固态)-硅片清洗-扩散/氧化-光刻-刻蚀-去胶-离子注入--化学气相沉积-溅射铝-减薄-QC质量检验-入库。

   由苏州市创联净化设备有限公司承建的15t/h高纯水设备设计出水指标:

  超纯水技术参数:

 电阻率:           18.1MΩcm(@25℃)

 总溶解有机碳             TOC:<50ppb

 颗粒度:            < 5个/ml  (φ>0.2u)

 SiO2含量:              < 5ppb

 温度:                 22~27℃

 细菌含量:           <50个/100ml

 压力:0.3Mpa 

  本项目采用二级反渗透+EDI+抛光混床工艺制取高纯水,特别考虑到了对水中TOC、颗粒物和细菌方面的控制。